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355nm UV 레이저

355nm UV 레이저

모델: GT-355-50

간단한 설명:

자외선 레이저는 초점 성능이 좋고 파장이 짧고 광자 에너지가 높고 냉간 처리하는 특성이 있으며 특정 광화학 반응을 자극할 수 있습니다.이러한 특성으로 인해 광학 데이터 저장, 스펙트럼 분석, 광학 디스크 제어, 광화학 반응, 대기 탐지, 생물학, 의학 및 과학 연구에 널리 사용됩니다.


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기술적인 매개변수

제품 태그

Uv 레이저는 마이크로머시닝 응용 분야에서 세 가지 뚜렷한 이점이 있습니다.

짧은 파장은 매우 작은 부품을 처리하는 데 사용할 수 있습니다.빔 회절 효과는 부품의 최소 크기를 제한하는 주된 이유입니다.

높은 에너지를 가진 광자는 재료 내부의 분자의 화학 결합을 직접 파괴할 수 있습니다.이 프로세스를 "콜드" 처리 프로세스라고 합니다.가시 레이저 및 적외선 레이저와 비교할 때 열 영향부는 거의 무시할 수 있습니다.

본질적으로 대부분의 재료는 자외선을 흡수할 수 있으며, 그 특성으로 인해 UV 레이저는 많은 가시 레이저 및 적외선 레이저 가공 재료를 처리할 수 있습니다.

반복 속도 조절 가능

외부 제어 가능

쉬운 사용 및 유지 보수 무료

수명이 긴 작동

고효율

높은 신뢰성

기술적 지표

모델 번호.

GT-355-50

파장

355+/-1nm

공간 모드

TEM00 근처

출력 전력(평균)

>1, 5, 10,…, 50mW

작동 모드

펄스 레이저

단일 펄스 에너지

1-10uJ

펄스 폭

5-10ns

피크 파워

100W~2KW

반복률

1~10KHz

편광

>50:1

빔 스폿 형상

원형, 종횡비<1.1:1

포인팅 안정성

<0.05mrad

빔 직경(1/e2)

2mm

빔 발산

<1.5mrad

베이스로부터의 빔 높이

45mm

전력 안정성*

4시간당 <±5%

온도 안정화

TEC

준비 시간

<5분

최적의 작동 온도

20~30oc

보관 온도

10~50oC

MTTF**

10,000시간

치수

211(L)x88(W)x74(H) mm³

전원 공급 장치

C. 조정 가능한 랩 유형 : 178(W)x197(D)x84(H) mm³

레이저 헤드 그리기

에르븀 기술5

조정 가능한 랩 유형

에르븀 기술6

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